企業(yè)海外參展常見的知識產(chǎn)權(quán)風險有哪些？

企業(yè)海外參展常見的知識產(chǎn)權(quán)風險集中在專利權(quán)（發(fā)明、實用新型和外觀設(shè)計）風險、商標權(quán)風險和版權(quán)風險三大方面。

參展產(chǎn)品一般融合了最先進的研發(fā)成果，因其外型、結(jié)構(gòu)、原理被抄襲而引發(fā)的專利侵權(quán)糾紛，是展會中發(fā)生比例最高的。外觀設(shè)計專利、普通的實用新型專利，內(nèi)行人只要看一眼，就能立刻模仿。大部分的展會查抄都是因?qū)＠穑乙呀?jīng)由簡單的外觀設(shè)計、實用新型專利侵權(quán)糾紛向復雜的、不易判斷的發(fā)明專利糾紛發(fā)展，因此盡量提前做好企業(yè)海外知識產(chǎn)權(quán)布局。

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